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現在水廠常用的水處理技術
日期:2010年9月4日 瀏覽[4570]

      

反(fan)(fan)滲(shen)透(tou),英文(wen)為Reverse Osmosis,是花費(fei)數億美元并(bing)經(jing)過多年的(de)(de)(de)精心研制而(er)成(cheng)的(de)(de)(de)高科(ke)技水處理技術。這種薄膜分離(li)技術,是依靠滲(shen)透(tou)膜在(zai)壓(ya)力下(xia)使(shi)溶(rong)液(ye)中的(de)(de)(de)溶(rong)劑(ji)與溶(rong)質(zhi)進行分離(li)的(de)(de)(de)過程。滲(shen)透(tou)是一(yi)種物(wu)理現象。反(fan)(fan)滲(shen)透(tou)就(jiu)是在(zai)有鹽份的(de)(de)(de)水中(如原水)施(shi)加比自然(ran)滲(shen)透(tou)壓(ya)力更大(da)的(de)(de)(de)壓(ya)力,使(shi)水由(you)濃度高的(de)(de)(de)一(yi)方滲(shen)透(tou)到(dao)濃度低的(de)(de)(de)一(yi)方,把原水腫的(de)(de)(de)水分子壓(ya)到(dao)膜的(de)(de)(de)另(ling)一(yi)邊變成(cheng)純凈水,而(er)原水中的(de)(de)(de)細(xi)微雜質(zhi)、膠體、物(wu)、重金(jin)屬、細(xi)菌、病毒(du)及其他有害物(wu)質(zhi)都(dou)統統截(jie)留下(xia)來并(bing)經(jing)污水出口排放(fang)掉。由(you)于(yu)反(fan)(fan)滲(shen)透(tou)膜的(de)(de)(de)孔徑(jing)僅0.0001微米,一(yi)個細(xi)菌要縮小4000倍,過濾性(xing)病毒(du)也要縮小200倍以(yi)上才能通過,所以(yi)其去除(chu)率高達96%以(yi)上。

超濾(lv)是以膜兩側壓力(li)差為(wei)動力(li),以機械篩(shai)分原理為(wei)基礎的(de)(de)一種(zhong)溶液(ye)分離過程(cheng),使用壓力(li)通(tong)常為(wei)0.2MPa--0.6MPa,分離孔徑1nm--0.1μm,可廣泛應(ying)用于物質的(de)(de)分離、濃縮、提純。超濾(lv)過程(cheng)無相轉化(hua),常溫(wen)操作(zuo),對熱敏(min)性物質的(de)(de)分離尤為(wei)適宜(yi),并(bing)具有良好的(de)(de)耐溫(wen)、耐酸堿和耐氧化(hua)性能,能在(zai)60℃ 以下,PH為(wei)2-11的(de)(de)條件(jian)下長期連續使用。

EDI(Electro-de-ionization,continuouselectro-de-ionzation)又被稱為CDI和連續電(dian)(dian)除鹽。該技(ji)(ji)術(shu)是二十世紀八十年代(dai)以來逐漸興起的新技(ji)(ji)術(shu)。EDI裝置(zhi)將離(li)(li)(li)子(zi)交換(huan)(huan)樹脂充夾在(zai)(zai)陰/陽離(li)(li)(li)子(zi)交換(huan)(huan)膜(mo)之間(jian)形成EDI單元(yuan)。EDI工作原理如(ru)下(xia)圖所示。 EDI組件中將一定數(shu)量的EDI單元(yuan)間(jian)用(yong)網狀物隔(ge)開,形成濃(nong)水(shui)室。又在(zai)(zai)單元(yuan)組兩端設置(zhi)陰/陽電(dian)(dian)極。在(zai)(zai)直流電(dian)(dian)的推動下(xia),通過淡水(shui)室水(shui)流中的陰陽離(li)(li)(li)子(zi)分別穿(chuan)過陰陽離(li)(li)(li)子(zi)交換(huan)(huan)膜(mo)進入到濃(nong)水(shui)室而被淡水(shui)中去除。而通過濃(nong)水(shui)室的水(shui)將離(li)(li)(li)子(zi)帶出(chu)系統,成為濃(nong)水(shui)。


EDI設備一般(ban)以反滲(shen)透(RO)純(chun)(chun)水作為EDI給水。RO純(chun)(chun)水電阻(zu)率(lv)一般(ban)是(shi)40-2μS/cm(25℃)。EDI純(chun)(chun)水電阻(zu)率(lv)可以高達17MΩ.cm(25℃),但(dan)是(shi)根據去離子水用(yong)(yong)途,EDI純(chun)(chun)水適用(yong)(yong)于(yu)制備電阻(zu)率(lv)要求在1-17MΩ.cm(25℃)的純(chun)(chun)水。

現代(dai)水處理技(ji)術組合圖(tu):


  


 

 

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